이온 주입에 대한 Dopant diffusion, ion implantation
Dopant diffusion, ion implantation
Diffusion Vs Ion Implantation
- 확산과 이온주입은 불순물 원자를 반도체 안에 주입할 때 쓰는 기법
What is Ion Implantation?
(출처 : Wikipedia)
- Low-temperature technique
- 고 에너지 이온의 빛을 반도체에 비추면 격자 원자와 이온들의 충돌이 일어나 결정구조의 왜곡을 초래한다.
- 그 후, 왜곡을 해결하기 위해 annealing단계를 거친다.
※ annealing : 고온으로 장시간 유지시킨 후 서서히 냉각하는 열처리 - Ion implantation setup with mass separator